凡为应用全膜法工艺制备超纯水:
超滤:利用物理截留的方式去除水中一定颗粒大小的杂质,超滤产水水质要好于传统的多介质过滤,超滤产水水质稳定,大大延长了下游反渗透膜的寿命;
反渗透:选择性地去除98%以上的无机离子;
CDI离子交换:使反渗透产水水质进一步满足各种用水的要求,主要指标包括电阻率、硬度和硅,特别是对弱电解质硅的去除;
根据各行业标准要求再进行后续精处理,如TOC降解、脱气、去热源、蒸馏等。完全能够满足半导体行业、制药行业、电力行业及其他一般工业纯水使用要求。
半导体芯片厂超纯水 TOC<10ppb 颗粒度(PARTICLE)达0.5um≤200PCS/L 二氧化硅SiO2<5ppb 电阻率≥18MΩ.cm(25℃) 采用高纯度PVDF管路
| 水剂、针剂制造行业 产水电导率应小于1.3us/cm(25℃) 产水细菌总数≤2CFu/ml TOC <500ppb 产水符合GMP标准 药剂制造行业 提供完全符合GMP规范要求的生产工艺之用水。 |
化工工艺过程用纯水处理系统 生产锅炉用纯水处理系统(补给水PH值在8.5~9.2之间) 一般用水处理系统 出水水质≤0.2-1us/cm(25℃) | 锅炉用除盐水处理系统 锅炉用软化水水处理系统 电厂用凝结水处理系统
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